Progresívne technológie povrchových úprav>CVD (Chemical Vapour Deposition)>>1,2

___.Výhodami CVD metód sú vysoká reprodukovateľnosť a adhézia, hrúbka povlakov je rovnaká aj u zložitých tvarov podložiek, možnosť kontroly a usmerňovania rýchlosti rastu povlakov, použitie rôznych druhov prekurzorov, príprava povlakov so zvýšenou rýchlosťou nanášania, čistotou a hustotou.
___.Nevýhodou CVD metódy je jedovatosť, horľavosť a výbušnosť prekurzorov a splodín reakcií. Nevýhodná je tiež požadovaná teplota podložky (800 až 1200 °C) [6].

___.Na obr. 26 je schematicky znázornené zariadenie pre CVD proces.

Predchádzajúca strana 1 2