Progresívne technológie povrchových úprav>CVD (Chemical Vapour Deposition)>>1,2

CVD (Chemical Vapour Deposition)___Ukážka CVD procesu [39]

___.Chemické nanášanie (depozícia) z pár je metóda tvorby povlakov, pri ktorej pomocou prekurzorov (prchavé zlúčeniny prvkov) vzniká chemická reakcia a dochádza k vzniku neprchavých pevných povlakov, ktorých zloženie zodpovedá potrebnému materiálu. Na vhodne uloženej podložke nastáva chemická reakcia. Na povrchu podložky sa pevné produkty reakcie deponujú a tým vzniká a rastie vrstva požadovaného materiálu. Metóda CVD sa používa pri vytváraní ochranných, dekoratívnych a optických povrchových vrstiev a pre mikroelektronické zariadenia [25]. Na obr. 25 je proces vytvárania CVD povlaku s popisom.

1 množstvo prenášaných reaktantných látok plynu do objektu substrátu
2 rozptyl reaktantných látok prostredníctvom hraničných vrstiev do substrátu povrchu alebo homogénnych chemických reakcií na formovanie polotovarov
3 absorpcia reaktantných látok alebo medziproduktov na substrát povrchu
4 heterogénne reakcie, povrchová migrácia, zahrnutie atómov povlaku do rastúceho povrchu a formovanie druhov vedľajších produktov
5 desorpcia vedľajších produktov na povrch reakcie
6 rozptyl vedľajších produktov do množstva plynu
7 transport vedľajších produktov plynných látok preč zo substrátu [26].

1 2 Nasledujúca strana