Progresívne technológie povrchových úprav>PVD (Physical Vapour Deposition)

PVD (Physical Vapour Deposition)___Ukážka PVD procesu [40]
Ukážka PVD procesu 2 [41]

___.„PVD metódy (fyzikálne nanášanie z pár) možno charakterizovať ako odparovanie alebo odprašovanie materiálu a jeho transport na povrch súčiastky pripojenej ku katóde. Odparené častice sa cestou na povrch súčiastky rozpadajú na malé častice (molekuly, atómy, ióny) ionizáciou. Počas tejto cesty nedochádza ku chemickej reakcii“ [6].

___.Zariadenie, proces a detail PVD (magnetrónového naprašovania) je zobrazený na obr. 27.

___.Pomocou tejto technológie je možné nanášať povlaky na takmer všetky kovy, ktoré sú chemicky nerozložiteľné. PVD je veľmi často používané pre získanie lesklých kovový vrstiev, a to nielen na povrchu polymérnych výrobkov, fólií, ale aj pri vytváraní povlaku pre sklo, keramiku a kovy. Metóda PVD sa používa pri výrobe polovodičových súčiastok, hliníkových povlakov na PET fóliách, vytváranie tvrdých povlakov vhodných pre obrábacie nástroje a výroba dekoračných kovových povlakov [27].